REKAM JEJAK KIMIA PERMUKAN SIO2 PRODUKSI FASILITAS TEKNOLOGI PEMURNIAN ZIRKONIUM PSTA

Abstract

REKAM JEJAK KIMIA PERMUKAN SIO2 PRODUKSI FASILITAS TEKNOLOGI PEMURNIAN ZIRKONIUM
PSTA. Telah dilakukan rekam jejak kimia permukan SiO2 produksi fasilitas teknologi pemurnian zirkonium
PSTA. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk melakukan perekaman jejak gugus silanol (≡Si-OH), siloksan
(≡Si-O-Si≡) serta grup air (OH) di permukaan produk hasil pemurnian SiO2 gel. Parameter proses pemurnian
memakai variable fungsi suhu, waktu dan konsentrasi asam HF. Rekam jejak SiO2 gel dilakukan dengan
Fourier- transform infrared (FT-IR) spectroscopy dan deteksi desorpsi pengotor Fe3+ memakai absorpsi
serapan atom (AAS). Hasil Pemurnian SiO2 gel dengan pelarut campuran HF dan HCl, maksimal dilakukan
pada komposisi 1% HF dan 1N HCl pada suhu 80 C selama 8 jam. Pada keadaan proses pemurnian
5%HF, suhu 100 C dan waktu kontak 10 jam akan merusak gugus silanol, siloksan dan grup air.
Keberhasilan pemurnian perlu dilakukan rekam jejak FTIR pada hasil pemurnian di panjang gelombang 3448
cm-1, 1635 cm-1, 1103 cm-1 dan 462 cm-1 yang merupakan karakteristik dari SiO2. Dengan munculnya
puncak di sekitar panjang gelombang 1103 cm-1 dapat diprediksi cuplikan terdapat mineral jenis α quart.
Proses pemurnian SiO2 gel yang dilakukan pada kondisi optimal, ternyata dapat menghilangkan pengotor
dalam filtrat sebesar 60,4ml/l Fe3+ dari 100 mg/gr residu SiO2