PENGARUH IMPLANTASI ION ARGON PADA STRUKTUR MIKRO DAN KEKERASAN BAJA AISI 430 UNTUK BAHAN STRUKTUR REAKTOR
DOI:
https://doi.org/10.17146/jsmi.2016.17.2.4208Keywords:
Implantasi ion Ar , Struktur mikro, KekerasanAbstract
PENGARUH IMPLANTASI ION ARGON PADA STRUKTUR MIKRO DAN KEKERASAN BAJA AISI 430 UNTUK BAHAN STRUKTUR REAKTOR. Rekayasa permukaan dengan teknik implantasi ion argon (Ar+) dapat meningkatkan sifat bahan terutama kekerasannya. Implantasi ion argon ini dilakukan pada baja komersial AISI 430 untuk aplikasi bahan komponen reaktor. Perubahan struktur mikro dan kekerasan setelah implantasi diteliti untuk analisis perubahan sifat mekanik bahan. Proses implantasi ion dilakukan pada energi percepatan sebesar 100 keV dengan arus ion 10mA dan waktu implantasi divariasi 30, 60 dan 90menit. Pengamatan struktur mikro dan fasa dilakukan dengan pengujian mikroskop optik dan uji XRD (X-ray diffraction), sedang pengujian kekerasan dilakukan dengan metode pengukuran Vickers. Hasil uji mikroskop optik menunjukkan terjadi proses difusi ion argon ke permukaan baja komersial AISI 430 dengan kedalaman difusi sekitar 0, 5 mikron untuk waktu implantasi 60 menit dan 2 mikron untuk 90 menit implantasi. Hasil uji XRD untuk sampel sebelum dan sesudah implantasi menunjukkan identifikasi refleksi puncak bidang (110), (200) dan (211) berturutan muncul pada sudut difraksi 2θ= 44,57°; 64,86° dan 82,11°. Implantasi ion tidak menumbuhkan puncak dan fasa baru yang menunjukkan hanya terjadi proses substitusi dan bukan interstisi argon terhadap atombesi atau atom krompada kisi kristal BCC. Hal ini disebabkan karena jari-jari atomargon 0,987 Å hampir sama dengan jari-jari kovalen besi yaitu 1,17 Å seperti ini ditunjukkan pada pergeseran sudut difraksi. Perubahan kekerasan terjadi pada proses implantasi sesuai dengan dosis ionArgonmelalui penambahan waktu implantasi.Nilai kekerasan bajameningkat setelah diimplantasi ion argon, semakin lama proses implantasi semakin tinggi kekerasannya.Mula-mula saat baja komersialAISI 430 diimplantasi dengan ion argon selama 30 menit kekerasannya adalah 190,78 HV, kemudian setelah baja komersial AISI 430 diimplantasi dengan ion argon selama 60 menit kekerasannya menjadi 222,53 HV dan setelah baja komersial AISI 430 diimplantasi dengan ion argon selama 90 menit kekerasannya menjadi 241,46 HV.
Downloads
References
. R Couturier, C. Escaravage. “High Temperature
Alloys For The HTGR Gas Turbine: Required
Properties and Development Needs”. CEREM,
CEA-Grenoble, 2010, pp. 163-166.
. D. Buckthorpe, R. Couturier, B. v.d. Schaaf, et.al.,
“Material for the High TemperatureAlloys For The
HTGR Gas Turbine: Required Properties and
Development Needs”. in Transaction SMiRT16,
Washington D.C, paper #1943 (2001), pp. 1-8.
. William D. Callister, Jr. and David G. Rethwisch.
Materials Science and Engineering, SI Version. John
Wiley & Sons, Inc., 2011, pp. 319-335
. W. F. Lee, C.Y. Wu, C.T. Lin, et.al., “The effect of
nitrogen addition to Ar/CH4
gas mixture on
microstructural characterization of nanocrystalline
diamond”. Journal of Polymer Engineering, 34-3,
pp. 253-258, 2014.
. A. E. Amrani, R. S. Kaddour, M. Maoudj, et.al.,
“Investigation of rapid thermal oxide/ silicon nitride
passivation stack of n+
emitter”. Current Applied
Physics, 15-12, pp. 1563-1567, 2015.
. C.F. Wolle, M.A. Vasconsellos, R.Hinrichs, A.N.
Becker, F.B. Barletta and J Endod., “The effect of
argon and nitrogen ion implantation on nickeltitanium rotary instruments”, 35-11 (2009) 1558-62.
. F. Djurabekova, K. Nordlund, J. Räisänen and T.
Sajavaara. “Transformation of YSZ under high
fluence argon ion implantation”. in Proc. 17th
International Conference on Radiation Effects in
Insulators (REI), 2014, Vol. 326, pp. 283-288.
. F.L. Deng, S.W. Zhu, L.J. Wu , B.J. Cheng.“Effects
of low-energy argon ion implantation on the
dynamic organization of the actin cytoskeleton
during maize pollen germination”. Genet Mol Res.,
-2, pp.785-796, 2010.
. F.Z. Fang, Y.H. Chen, X.D. Zhang, X.T. Hu,, G.X.
Zhang. “Nanometric cutting of single crystal
silicon surfaces modified by ion implantation”.
CIRP Annals Manufacturing Technology, 60-1,
pp. 527-530, 2011.
. Y.H. Chen, Z.W Xu, F.Z. Fang, Y.H. Chen, et.al.,
“Surface modification for brittle monocrystalline
materials by MeV ions”. Nuclear Instruments and
Methods in Physics Research Section B: Beam
Interactions with Materials and Atoms, 272,
pp. 433-436, 2012.
. I. Wahyono, R. Salam, A. Dimyati, Parikin.
“Karakterisasi strukturmikro menggunakan SEM
dan XRD pada ketahanan korosi baja komersial
SS430 dan baja non komersial F1”. dalam Pros. Sem.
Nas. XI SDM TN - Yogyakarta, 2015, hal. 112-117.
. C.E. Dubé, B.T.D Buzby, R. Tavares, et.al., “High
efficiency selective emitter cells using patterned
ion implantation”. in Proc. of The 1st International
Confr. on Crystalline Silicon Photovoltaics, 2011.
. M. Braic, M. Balaceanu, A. Vladescu, et.al.,
“Deposition and characterization of multi-principalelement (CuSiTiYZr)C coatings”. Applied Surface
Science, 284, pp. 671-678, 2013.
. V. Braic, M. Balaceanu, M. Braic , et.al.,
“Characterization of multi-principal-element
(TiZrNbHfTa)N and (TiZrNbHfTa)C coatings for
biomedical applications”. Journal of the
Mechanical Behavior of Biomedical Materials,
, pp.197-205, 2012.
. C. Jagadish, S. J. Pearton. “Ion Implantation into
ZnO in Technology & Engineering” . Charon
Tech., Chennai India, pp. 285-313, 2011
Downloads
Published
How to Cite
Issue
Section
License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.





