KARBURASI BAJA ST 40 DENGAN TEKNIK SPUTTERING
DOI:
https://doi.org/10.17146/jusami.2006.8.1.4814Keywords:
Baja ST 40, perlakuan permukaan, plasma, sputteringAbstract
KARBURASI BAJA ST 40 DENGAN TEKNIK SPUTTERING. Telah dilakukan karburasi baja ST 40 dengan teknik sputtering. Karburasi bertujuan untuk memperbaiki sifat-sifat mekanik permukaan khususnya peningkatan kekerasan permukaan. Dalam proses karburasi dengan teknik sputtering, material yang dikarburasi ditempatkan dalam reaktor plasma dengan tekanan rendah (vakum) dan gas argon dialirkan ke dalam reaktor plasma serta diplasmakan dengan tegangan DC untuk men-sputter sumber karbon dari grafit. Atom- atom karbon dari grafit yang ter-sputter dideposisikan pada baja sehingga terjadi proses karburasi. Karburasi dilakukan dengan variasi suhu dan waktu untuk mendapatkan hasil yang optimal. Hasil karburasi didapatkan kekerasan maksimum sebesar 919, 65 KHN atau dengan persentase kenaikan kekerasan sebesar 365 % dari kekerasan awal (197,54 KHN) yang dicapai pada waktu karburasi 3 jam dan suhu 300 0C. Kedalaman karburasi didasarkan pada pengujian kekerasan mikro penampang melintang didapatkan antara 100 µm sampai dengan 150 µm.
Downloads
References
. ————————, Wear Resistant Surfaces in
Engineering, A Guide to Their Production,
International Research & Development Co. Ltd,
London (1986).
. SISWANTO, B.,YUNANTO dan ATMONO, T.M.,
Analisin Pengaruh Ion Nitrogen terhadap Besi
Teknis Bentuk As, Prosiding PPI Teknologi
Akselerator dan Aplikasinya, 3 (1) (2001)
. SISWANTO, B., WIRYOADI, SUJITNO T. dan
SANTOSO, S. , Pengaruh Ion Karbon Terhadap
Kekerasan dan Keausan Substrat Besi Lunak,
Prosiding PPI Teknologi Akselerator dan
Aplikasinya, 3 (2) (2001)
. SISWANTO, B. dan WIRYOADI, Pengaruh
Deposisi Ion Karbon dan Nitrogen terhadap
Struktur Kristal Substrat Besi, Prosiding PPI
Teknologi Akselerator dan Aplikasinya, 4 (1)
(2002)
. HARIYANTO, S., SUDJATMOKO, BUDIANTO,
A. dan SUBARKAH, Pembuatan Lapisan Tipis TiN
Dengan Menggunakan Teknik Sputtering,
Prosiding PPI Penelitian Dasar Iptek Nuklir,
P3TM, Yogyakarta (1999)
. OHRING, M., The Material Science of Thin Film,
International Edition Academic Press Inc,
(1992)
. WASA, K. AND HAYAKAWA, S., Handbook of
Sputter Deposition Technology, Noyes
Publication, NewYork (1992)
. KONUMA, M., Film Deposition by Plasma
Techniques, Spinger Verlag, Berlin (1992)
. RAJAN, T.V., SHARMA, C.P., SHARMA,A., Heat
Treatment : Principles and Techniques, Revised
Edition, Prentice Hall of India Private Limited, New
Delhi (1997)
Downloads
Published
How to Cite
Issue
Section
License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.





